华海清科股份有限公司（以下简称 公司 或 华海清科 ）成立于2013年，注册资金8000万元，位于天津市津南区，是一家拥有核心自主知识产权的高端半导体设备制造商，主要产品为化学机械抛光（即Chemical Mechanical Polishing，简称CMP）设备。
CMP是先进集成电路制造前道工序必需的关键制程工艺，公司所生产CMP设备可广泛应用于12英寸和8英寸的集成电路大生产线，产品总体技术性能已达到国际先进水平。公司推出了国内首台拥有核心自主知识产权的12英寸CMP设备并实现量产销售，是目前国内***一家为集成电路制造商提供12英寸CMP商业机型的高端半导体设备制造商；公司所产主流机型已成功填补国内空白，打破了国际巨头在此领域数十年的垄断，有效降低了国内下游客户采购成本及对国外设备的依赖，支撑国内集成电路产业的快速发展。
公司研发团队核心来自于清华大学摩擦学国家重点实验室，先后承担、联合承担了两项 国家科技重大专项（02专项） 及三项***重大项目/课题，针对纳米级抛光、纳米颗粒超洁净清洗、纳米精度膜厚在线检测、大数据分析及智能化控制等CMP设备核心关键技术取得了有效突破和系统布局，打破了国外巨头的技术垄断，真正实现了国内市场CMP设备领域的国产替代。
