1、负责半导体（光刻、刻蚀）模块日常工作；
2、维护光刻工艺稳定；
3、开发与光刻模块有关的新工艺以及设备维护；
4、与其他工程师紧密配合，进行工艺流程分析等工作。
任职要求：
1、半导体类相关专业本科3年以上经验；
2、湿法及干法刻蚀GaAs、InP半导体材料工艺经验；
3、掌握干法、湿法设备的工作原理、设备结构、主要技术指标；
4、英语四级以上。
企业优势：中国科学院参股企业、国家高新技术企业、江苏省双创团队、双创人才；
技术团队：中国科学院院士、双创博士、国家高层次人才支持计划获得者、海归博士、资深专家；
福利待遇：五险一金、商业险、带薪年假、双休、工作餐丰盛、单间住宿、免费体检、学历提升、晋升加薪、季度团建、通讯补助、定期培训、员工旅游；
工作环境：全年恒温洁净室工作环境
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